Intel hat heute offiziell bekannt gegeben, dass man im vierten Quartal 2009 erste 32nm-Chips produzieren wird. Am Montag sind bereits Gerüchte über einen ersten, möglichen solchen Chip
aufgetaucht. Die Entwicklungsphase für die kommende Prozessoren-Generation, die energieeffizienter und leistungsfähiger sein soll, ist laut
Intel abgeschlossen. Mit der Einführung des 32nm-Herstellungsverfahrens wird Intel 2009 das vierte Jahr in Folge eine neue Prozessor-Architektur und Strukturverkleinerung bei der Fertigung aufweisen können.
Noch ein paar Details zum neuen 32nm-Herstellungsverfahren: Die Basis dafür ist die zweite Generation der High-k und Metal-Gate-Transistor-Technologie. Dazu gehöre die 193nm-Immersionslithographie und eine verbesserte Transistor-Strain-Technik. Letztere sorgt dafür, dass die Ladungsträger im Silizium sich schneller bewegen und der Transistor so schneller schalten kann. Weitere Details zur 32nm-Technik will Intel kommende Woche vom 15. bis 17. Dezember auf der IEDM (International Electron Devices Meeting) in San Francisco liefern.
(mv)