Intel mit zwei 65-Nanometer-Prozessen
Auf der 65-Nanometer-Stufe setzt Intel erstmals zwei verschiedene Prozesse zur Herstellung von Halbleitern gleicher Strukturgrösse ein.
20. September 2005
In der Chipfertigung steht die 65-Nanometer-Generation vor der Tür. Neben dem bereits angekündigten 65-Nanometer-Herstellungsprozess P1264 sieht Intel nun ein zweites Fertigungsverfahren mit der gleichen Strukturgrösse für besonders stromsparende Prozessoren vor, die in Mobilgeräten wie Handys und PDAs zum Einsatz kommen (Intels Xscale-Reihe).
Der neue Ultra-Low-Power-Prozess P1265 soll durch diverse Verfahren, darunter eine höhere Threshold-Spannung und dickere Gate-Oxidschichten, die Leckströme gegenüber P1264 auf ein Tausendstel reduzieren. Damit wird jedoch nicht nur der Stromverbrauch des Prozessors geringer, sondern auch die erreichbare Taktfrequenz und die Anzahl möglicher Transistorfunktionen pro Fläche. Der Prozess eignet sich deshalb nicht für den generellen Einsatz, sondern nur für Anwendungen mit besonders hohem Energiesparanspruch. (ubi)
Der neue Ultra-Low-Power-Prozess P1265 soll durch diverse Verfahren, darunter eine höhere Threshold-Spannung und dickere Gate-Oxidschichten, die Leckströme gegenüber P1264 auf ein Tausendstel reduzieren. Damit wird jedoch nicht nur der Stromverbrauch des Prozessors geringer, sondern auch die erreichbare Taktfrequenz und die Anzahl möglicher Transistorfunktionen pro Fläche. Der Prozess eignet sich deshalb nicht für den generellen Einsatz, sondern nur für Anwendungen mit besonders hohem Energiesparanspruch. (ubi)
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