Rettung für Moore's Law

Das Mooresche Gesetz besagt, dass sich die Anzahl Transistoren auf Mikroprozessoren alle
18 Monate verdoppelt. Um dies zu erreichen, müssen die Strukturbreiten kontinuierlich geschrumpft werden. Dies wird mit der heutzutage verwendeten Photolithographie aber immer schwieriger, da sie jenseits der
35 Nanometer langsam aber sicher an ihre Grenzen stösst. Forscher der Universität Berkeley wollen nun einen Weg gefunden haben, um die Strukturbreiten auf unter 10 nm drücken zu können – und damit das Mooresche Gesetz für ein paar Jahre zu retten.



Ihre Entwicklung basiert auf Plasmonen. Hierbei handelt es sich um freie Elektronen an der Ober­fläche von Metallen, die zu schwingen beginnen, sobald Licht auf sie trifft. Diese Schwingungen, evaneszente Wellen genannt, können Licht absorbieren oder erzeugen, wobei die Wellenlänge deutlich kleiner ist als diejenige des einfallenden Lichts. Um sie für Photolithographie nutzen zu können, haben die Wissenschaftler Plasmon-Linsen aus Silber hergestellt. Dabei fokussieren konzentrische Kreise das Licht auf ein Loch im Zentrum. Diese Linsen haben die Forscher an einen Arm montiert, der über dem rotierenden zu belichtenden Material schwebt und es vergleichbar mit einer Festplatte «beschreibt».

Den Vorteil ihrer Technik sehen die Forscher vor allem in tieferen Anlagekosten, da im Vergleich zur herkömmlichen Photolithographie keine komplexen Spiegel- und Linsensysteme benötigt werden und sie ausserdem erheblich schneller als alternative Verfahren wie die Elektronenstrahllithographie sei.