ETH säubert Chip-Herstellung
Je kleiner und leistungsfähiger Chips werden, desto höhere Reinheitsanforderungen müssen sie erfüllen.
18. August 2008
Forscher des Instituts für Leistungselektronik der ETH Zürich und Levitronix haben zusammen ein Gerät entwickelt, dass die Herstellung von Chips revolutionieren soll. Der so genannt magnetgelagerte Rotationsteller soll die Reinheitsanforderungen an besonders kleine und leistungsfähige Chips erfüllen. Ein funktionsfähiger Prototyp wird bereits von einem Halbleiterhersteller getestet.
Bislang stossen Halbleiterhersteller bei der Prozessierung von Silizium-Wafern an ihre Grenzen. Über fotochemische Prozesse werden die Strukturen der elektronischen Schaltungen der Chips auf die Wafer gebracht. Die modernsten integrierten Schaltungen verfügen über Strukturbreite von 32 Nanometer. Hier werden die Wafer bereits durch kleinste Abriebpartikel unbrauchbar, die durch die Rotation der Wafer entstehen. Das von der ETH entwickelte Gerät hält die Wafer magnetisch in der Schwebe und lässt sie rotieren. Fügt man eine chemisch beständige, gas- und druckdichte Prozesskammerwand ein, so entstehen in der Regel keine Partikel durch Abrieb.
(abr)
Bislang stossen Halbleiterhersteller bei der Prozessierung von Silizium-Wafern an ihre Grenzen. Über fotochemische Prozesse werden die Strukturen der elektronischen Schaltungen der Chips auf die Wafer gebracht. Die modernsten integrierten Schaltungen verfügen über Strukturbreite von 32 Nanometer. Hier werden die Wafer bereits durch kleinste Abriebpartikel unbrauchbar, die durch die Rotation der Wafer entstehen. Das von der ETH entwickelte Gerät hält die Wafer magnetisch in der Schwebe und lässt sie rotieren. Fügt man eine chemisch beständige, gas- und druckdichte Prozesskammerwand ein, so entstehen in der Regel keine Partikel durch Abrieb.
(abr)
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